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半導体関連

北海道から世界に広がる半導体産業を支えます

産業の米と呼ばれる半導体。パソコンやスマートフォンとあらゆるデジタル機器で使用されており、我々の生活に広く深く浸透し、現在の社会を支えています。
ひとくちに「半導体産業」と呼びますが、実は多岐にわたる関連業界の集合体で、多くの専門的な業界・業種から構成されています。

 私たちは製造過程で必要な取り扱いが難しいガスを安全に利用していただけるよう、移動、保管、供給、排気、監視システムに至るまで、関連機器を含めたトータルソリューションをお届けしています。

semiconductor

半導体

半導体とは電気を通す「導体」と、電気を通さない「絶縁体」の両方の性質を持っているものです。条件によって電気の流れを制御することができる特徴があることから、慣用的に半導体と呼ばれています。 この特徴を活用して電化製品や電子機器の頭脳であるCPUなど、いまではなくてはならない中心的役割を果たしています。

半導体

半導体製造過程で使用される半導体材料ガス

半導体をつくる過程の中に様々なガスが使われています。
これらは半導体材料ガス(Electronic Specialty Gases)の事を指し、主に電子機器の製造や半導体製造プロセスでさまざまなガスが活躍しています。
これらのガスは非常に高い純度が要求され、微量の不純物も含まれてはならないため、非常に特殊な製造プロセスが必要です。

IC・メモリー・液晶・太陽電池等の半導体製造に欠かせないガス(抜粋)

※左右にフリックしてご覧いただけます。
半導体製造に使用される代表的なガス
成膜用 亜酸化窒素 N2O SiO2の減圧/常圧CVD、SIPOSのCVD
アンモニア NH3 Siの熱窒化、SiNxのCVD
オゾン O3 SiO2の常圧TEOS-CVD
酸素 O2 Siの熱酸化、SiO2のCVD
モノシラン SiH4 熱分解によるSi、poly-Siの成長、SiO2、SiNx、SiON などのCVD
ジクロロシラン SiH2Cl2 SiNx、WSixのCVD
ジシラン Si2H6 Si-GeのCVD
六フッ化タングステン WF6 W、WSixのCVD
四塩化チタン TiCl4 H2、N2、NH3などとー緒にTiNのCVD
工ッチング用 一酸化炭素 CO SiO2工ッチング
塩素 Cl2 Si、Poly-Si、Al工ッチング
三塩化ホウ素 BCl3 Al工ッチング
臭化水素 HBr Si、POly-Siの工ッチング
四フッ化炭素 CF4 SiO2、SiNxの工ッチング
六フッ化硫黄 SF6 Si系の工ッチング、チャンバークリーニング
三フッ化窒素 NF3 Si系の工ッチング
不純物ソース用 アルシン(SDS® AsH3 イオン注入 プラズマ浸漬ドーピング
三フッ化ホウ素(SDS® 11BF3 イオン注入 プラズマ浸漬ドーピング エピタキシー 拡散
四フッ化ゲルマニウム(SDS®) GeF4 イオン注入
ホスフィン(SDS® PH3 イオン注入 プラズマ浸漬ドーピング
四フッ化ケイ素(SDS® SiF4 イオン注入
ホスフィン混合 PH3 イオン注入 プラズマ浸漬ドーピング
アルシン(SDS®)混合 AsH3 イオン注入 プラズマ浸漬ドーピング
トリメチルホスファイト(TMP) PO(OCH3)3 TEOS-CVDのリンソース(常温で液体)
トリメチルボレート(TMB) B(OCH3)3 TEOS-CVDのボロンソース(常温で液体)
その他用 窒素 N2 熱処理、キャリア、パージ、フォーミング
水素 H2 エピキャリア、水素終端、パイロジェニック
アルゴン Ar 熱処理、スパッタリングのノックオン
炭酸ガス CO2 純水バブリング
オゾン O3 純水バブリング
三フッ化窒素 NF3 チャンバークリーニング
半導体関連の画像

上記のガス種は一例です。ご希望のガスをご用意いたしますのでご相談ください。

製品の詳細はこちらをご覧ください。

半導体・特殊材料ガス 大陽日酸株式会社
http://www.tn-denzaigas.jp/jp/index.html

半導体製造のガス設備

半導体製造に使用される材料ガスの多くは、物性的に危険な性質を有し、人体や環境に有害な成分も含んでいる為、取り扱いには十分な注意が必要です。
その為、供給から排出されるまで安全且つ高品質に利用が出来るガス設備が必要不可欠です。
大陽日酸グループは材料ガスから排ガス処理まで一貫した最適なマネジメント&サービスをご提供し、トータル・ソリューションでお客様をサポートいたします。

半導体製造のガス設備